焦作電子級(jí)EW-I/II/III/IV超純水系統(tǒng)價(jià)格

電子級(jí)超純水系統(tǒng)概述

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn) 器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)

2、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線(xiàn) 器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥18MΩ.CM)

3、預(yù)處理系統(tǒng)→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線(xiàn) 器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥17MΩ.CM)

4、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線(xiàn) 器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水點(diǎn)(≥15MΩ.CM)

5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線(xiàn) 器→精密過(guò)濾器→用水點(diǎn) (≥15MΩ.CM)

電子半導(dǎo)體超純水系統(tǒng)通常直接接入國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，通常有多介質(zhì)過(guò)濾器，活性炭過(guò)濾器，精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)，另有RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)，離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。系統(tǒng)水箱設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠(yuǎn)程輸送至中控室上位機(jī)，實(shí)現(xiàn)現(xiàn)場(chǎng)就地和集中控制兩種操作方式，降低了人工的操作復(fù)雜度和維護(hù)工作量等，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法，或者公司可按照客戶(hù)對(duì)于水質(zhì)的要求進(jìn)行特殊定制，既能 用水水質(zhì)達(dá)標(biāo)，同時(shí)降低了所需成本，使該設(shè)備與其他同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。

電子級(jí)超純水系統(tǒng)用水標(biāo)準(zhǔn)：

符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

電子級(jí)超純水系統(tǒng)選型表：

注：1、設(shè)備尺寸僅供參考，可根據(jù)用戶(hù)需求進(jìn)行量身定做；

1、電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

2、電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

3、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、配料用純水

4、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水

5、液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

6、晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

7、集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

8、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10、高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

11、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

12、超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料